纳米压印制程能力——模板的高精度拼接能力
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"新维度技术团队拥有大面积模板的图案拼接能力，可实现：
1、大面积图案制造：通过拼接技术，可以实现更大尺寸的光学元件的制造，满足市场需求. 现阶段研发中心可以实现8英寸晶圆的高精度纳米压印；继续搭建大面积G2.5代线（370mm x 470mm）的纳米压印设备平台，满足更多产品的加工需求；
2、复杂微纳结构制造：适应不同尺寸和形状的图案制造需求，可以灵活地制造出各种复杂的微纳结构。
3、提高生产效率与降低成本：可以一次性制造出多个器件或图案，减少因模板制作和更换而导致的停机时间，因此也有助于降低生产成本。这对于大规模工业化生产具有重要意义。"
图示：模板拼接位置精度20±5um,面积8inch晶圆，线宽分辨率50nm
图示：500mm x 500 mm的面板级纳米压印，光栅结构
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