纳米压印制程能力——双面对准压印能力
双面对准压印技术(Double-sided alignment nanoimprint lithography)是一种能够在衬底两面同时或先后进行高精度图案对准转移的纳米压印技术。这项技术克服了传统单面压印的局限性，为复杂微纳结构制造提供了新途径。新维度团队具备高精度双面对准压印能力，具体如下：
1.高精度对准：可实现纳米级的双面图案对准精度
2.高效率：可一次性完成双面图案转移，提高生产效率
3.三维集成：为多层结构器件提供制造基础
4.材料兼容性：适用于多种聚合物、生物材料和功能材料
1.高精度对准：可实现纳米级的双面图案对准精度
2.高效率：可一次性完成双面图案转移，提高生产效率
3.三维集成：为多层结构器件提供制造基础
4.材料兼容性：适用于多种聚合物、生物材料和功能材料
纳米压印制程能力——对准套刻压印能力
在纳米压印技术中，对准技术是至关重要的环节，对准精度直接影响到器件的性能和良率。新维度技术团队拥有高精度地对准压印能力，可以实现纳米级的高精度对准，可有效减少产品缺陷，提高生产良率，降低制造成本。
纳米压印制程能力——模板的高精度拼接能力
新维度技术团队拥有大面积模板的图案拼接能力，可实现：
1.大面积图案制造：实现更大尺寸的光学元件的制造；
2.复杂微纳结构制造：适应不同尺寸和形状的图案制造需求
3.提高生产效率，降低生产成本
1.大面积图案制造：实现更大尺寸的光学元件的制造；
2.复杂微纳结构制造：适应不同尺寸和形状的图案制造需求
3.提高生产效率，降低生产成本
纳米压印制程能力——模板制备能力
新维度技术团队具备出色的高精度模板制备技术，能够制备从几十纳米至几微米的不同尺寸规格，以及涵盖硅基、金属、聚合物、玻璃等多种材质的模具。充分满足了微纳器件对高集成度和精细结构的要求。
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