重磅预告|苏州新维度总经理受邀出席第三届光掩模与光刻胶技术论坛并发表演讲

发布时间:

2026-04-24 10:55

行业盛会启新程，技术深耕赴新约！备受关注的第3届光掩模与光刻胶技术论坛，将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛聚焦光掩模与光刻胶领域的技术前沿、产业趋势及合作机遇，汇聚行业精英、专家学者与企业代表，共话产业发展新未来。

作为微纳制造领域的深耕者，苏州新维度微纳科技有限公司受邀参与本次论坛，公司总经理罗刚博士将作为演讲嘉宾，登台分享主题报告——《基于纳米压印全生态产业平台的微纳光学器件制造》，与现场同仁深度探讨微纳光学器件制造领域的发展趋势、技术突破与合作可能，解锁产业创新新路径。

苏州新维度微纳科技有限公司始终专注于微纳制造技术的研发与产业化，以建设高精度纳米压印特色Fab为核心，以完善纳米压印工艺能力为宗旨，深度赋能产品全生命周期，提供覆盖工艺实现、快速迭代、量产研发到大规模制造的全流程解决方案。

公司核心业务涵盖AR镜片、衍射光学元件（DOE）、金属铝线栅偏振片（WGP）、纳米压印模板、超透镜及生物芯片等微纳结构器件，产品广泛应用于微纳光学、生物芯片、传感检测、电磁调控与新型显示等前沿领域。目前，公司已完成面向微纳制造产业的高精度纳米压印Fab平台建设，涵盖纳米压印模板制备、研发线、中试线与量产线，具备20纳米级特征的研发与量产能力，掌握多材料体系的加工工艺，可为客户提供从器件设计到大规模生产的全方位技术支持与服务保障。

未来，苏州新维度将持续以高精度纳米压印Fab平台为基石，以构建开放式微纳制造FOUNDRY为战略方向，深耕高精度制程能力、拓展工艺边界，全力打造全球领先的微纳制造生态体系，助力行业高质量发展。